нанопечатная литография

 Nanoimprint Lithography

 (NIL)

 Нанопечатная литография

  Процесс создания наноструктур, заключающийся в формировании на поверхности полимеров топографической структуры (изображения) с размером отдельных элементов менее 100 нм в результате физической деформации резиста шаблоном, несущим изображение наноструктуры. Он позволяет отпечатывать на подложке узоры из проводников шириной не более 50 атомов. Используя эту технологию, изготовлены прототипы схем, содержащие проводники шириной 15 нм – втрое меньше, чем у самых передовых коммерчески доступных полупроводниковых приборов. Привлекательная для серийного производства особенность технологии NIL заключается в том, что после создания так называемого «мастера» выпуск его копий является быстрым и недорогим, подобно выпуску компакт- дисков.