chemical vapor deposition


chemical vapor deposition
 Chemical Vapor Deposition
 (CVD)
 Химическое осаждение из паровой фазы
  Метод нанесения покрытий, в котором химические вещества сначала испаряются, а затем осаждаются на поверхность с помощью инертного газа-носителя, такого как азот. Например, осаждение металла проводится путем термического разложения его летучих соединений. CVD-процессы могут поддерживаться с помощью плазмы (PECVD = Plasma Enhanced CVD, усиленное плазмой CVD) или инициироваться ею (PACVD = активированное плазмой CVD). В качестве важных применений плазменных CVD-процессов выступают осаждение пленок аморфного углерода и кремния, а также пленок нитрида титана, карбида титана или нитрида кремния.

Толковый англо-русский словарь по нанотехнологии. - М.. . 2009.

Смотреть что такое "chemical vapor deposition" в других словарях:

  • Chemical vapor deposition — DC plasma (violet) enhances the growth of carbon nanotubes in this laboratory scale PECVD apparatus. Chemical vapor deposition (CVD) is a chemical process used to produce high purity, high performance solid materials. The process is often used in …   Wikipedia

  • Chemical vapor deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… …   Deutsch Wikipedia

  • chemical vapor deposition — cheminis garinis nusodinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. chemical vapor deposition vok. chemische Abscheidung aus der Gasphase, f rus. химическое осаждение из паровой фазы, n pranc. déposition chimique en phase vapeur,… …   Radioelektronikos terminų žodynas

  • chemical vapor deposition — noun : a technique for depositing a usually thin solid layer of a substance on a surface as the result of vapor phase chemical reactions in a high temperature gas in close proximity to the surface …   Useful english dictionary

  • Chemical Vapor Deposition — (CVD)   A method of depositing thin semiconductor films used to make certain types of solar photovoltaic devices. With this method, a substrate is exposed to one or more vaporized compounds, one or more of which contain desirable constituents. A… …   Energy terms

  • Chemical vapor deposition of ruthenium — is a method to deposit thin layers of ruthenium on substrate by Chemical vapor deposition (CVD). A unique challenge arises in trying to grow impurity free films of a catalyst in Chemical vapor deposition (CVD). Ruthenium metal activates C H and C …   Wikipedia

  • Chemical Vapor Deposition (journal) — Chemical Vapor Deposition   Titre abrégé Chem. Vap. Deposition CVD Discipline …   Wikipédia en Français

  • Chemical Vapor Deposition (journal) —   Abbreviated title (ISO) Chem. Vap. Depo …   Wikipedia

  • Chemical vapor deposition (CVD) — Chemical vapor deposition (CVD). См. Химическое покрытие паром. (Источник: «Металлы и сплавы. Справочник.» Под редакцией Ю.П. Солнцева; НПО Профессионал , НПО Мир и семья ; Санкт Петербург, 2003 г.) …   Словарь металлургических терминов

  • Chemical vapor deposition of diamond — Colorless gem cut from diamond grown by chemical vapor deposition Chemical vapor deposition of diamond or CVD is a method of producing synthetic diamond by creating the circumstances necessary for carbon atoms in a gas to settle on a substrate in …   Wikipedia

Книги

Другие книги по запросу «chemical vapor deposition» >>