химическое осаждение из паровой фазы


химическое осаждение из паровой фазы
 Chemical Vapor Deposition
 (CVD)
 Химическое осаждение из паровой фазы
  Метод нанесения покрытий, в котором химические вещества сначала испаряются, а затем осаждаются на поверхность с помощью инертного газа-носителя, такого как азот. Например, осаждение металла проводится путем термического разложения его летучих соединений. CVD-процессы могут поддерживаться с помощью плазмы (PECVD = Plasma Enhanced CVD, усиленное плазмой CVD) или инициироваться ею (PACVD = активированное плазмой CVD). В качестве важных применений плазменных CVD-процессов выступают осаждение пленок аморфного углерода и кремния, а также пленок нитрида титана, карбида титана или нитрида кремния.

Толковый англо-русский словарь по нанотехнологии. - М.. . 2009.

Смотреть что такое "химическое осаждение из паровой фазы" в других словарях: